81．陽(yáng)圖型PS版的制版原理是什么?
陽(yáng)圖型Ps版以光分解型重氮化合物作為感光材料，它用陽(yáng)圖底片作原版來(lái)曬版?？瞻撞糠质茏贤饩€照射后，感光劑分解并放出氮?dú)?，剩余物質(zhì)用稀堿溶液顯影時(shí)，依次與水分子和堿發(fā)生反應(yīng)，生成能溶于水的物質(zhì)而被水沖去，露出版基上親水的氧化鋁膜，作為印版的非圖文部分。圖文部分因有陽(yáng)圖片上的圖像擋光．感光劑不會(huì)分解，也就不能和稀堿溶液反應(yīng)而溶于水。留在Ps版上未感光的重氮化合物感光劑具有良好的親油性，成為印版的圖文部分基礎(chǔ)。
82．陰圖型PS版的制版原理是什么?
陰圖型PS版以光聚合型疊氮化合物作為感光材料，它用陰圖底片作原版來(lái)曬版。曬版時(shí)圖文部分的感光劑在紫外線的照射下，交聯(lián)成網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)而硬化，并牢固地吸附在印版表面，成為親油的圖文基礎(chǔ)。非圖文部分未曾曝光的感光材料可以通過(guò)顯影液除去，露出鋁版基上的氧化鋁膜，成為親水的空白部分。
83．使用陰圖型、陽(yáng)圖型PS版各有什么利弊?
陽(yáng)圖型PS版優(yōu)于陰圖型PS版的地方在于：以陽(yáng)圖底片作原版比用陰圖底片作原版直觀，曬版前容易檢查底片的正誤，容易用手工拼版，曬版時(shí)不需要用遮光紙擋住底片的四周．工藝操作方便。
陰圖型Ps版的優(yōu)點(diǎn)是：感光劑見(jiàn)光后由可溶性變?yōu)椴豢扇苄?，曬版后臟點(diǎn)比較少，除臟更容易；留在版上的感光層不受光的影響，耐酸．耐堿性好，印版耐印力比較高。對(duì)于一些簡(jiǎn)單的包裝印刷產(chǎn)品，只需用復(fù)照儀拍出陰圖底片即可用于曬版，減少?gòu)S拷貝的麻煩。
陰圖型PS版在我國(guó)很少使用，生產(chǎn)中大都使用陽(yáng)圖型PS版。
84．曬版時(shí)曝光時(shí)間不當(dāng)對(duì)陽(yáng)圖型PS版和陰圖型PS版的層次還原有什么不同的影響?
當(dāng)曝光過(guò)度時(shí)，對(duì)陽(yáng)圖型PS版來(lái)說(shuō)，因?yàn)樗鼘儆诠夥纸庑蚉S版，圖文部分的邊緣會(huì)因有更多的光滲入而分解，造成網(wǎng)點(diǎn)變小，很小的小網(wǎng)點(diǎn)丟失，整體階調(diào)變淺。對(duì)陰圖型PS版來(lái)說(shuō)，情況正相反，空白部分的邊緣因?yàn)橛懈嗟墓鉂B入而交聯(lián)，易造成網(wǎng)點(diǎn)增大，暗調(diào)并糊，整體階調(diào)變深。
當(dāng)曝光不足時(shí)，對(duì)陽(yáng)圖型PS版來(lái)說(shuō)．空白部分未能充分見(jiàn)光分解，會(huì)造成暗調(diào)并糊，臟點(diǎn)較多，甚至整個(gè)空白部分起臟。對(duì)陰圖型Ps版來(lái)說(shuō)，圖文部分未能充分見(jiàn)光交聯(lián)，容易出現(xiàn)網(wǎng)點(diǎn)變小，小網(wǎng)點(diǎn)丟失．印版的耐酸，耐堿能力差，耐印力下降。
85．陽(yáng)圖型PS版的曬版工藝流程是怎樣的?
陽(yáng)圖型PS版曬版的一般工藝流程是：裝版一曝光一顯影及；中洗一修版一(烤版。提墨)一擦膠。其中烘烤和提墨可以根據(jù)生產(chǎn)需要選擇使用。
86．生產(chǎn)中常見(jiàn)的影響曬版質(zhì)量的主要因素有哪些?
?、貾S版的質(zhì)量。
?、跁癜嬖娴灼馁|(zhì)量。
?、蹠癜孳?chē)間的環(huán)境。
?、軙癜鏅C(jī)的性能(包括曝光狀態(tài)和抽氣性能)。
?、蒿@影條件。
?、薰に嚥僮鞣椒?。
87．PS版的質(zhì)量包括哪些內(nèi)容?
PS版對(duì)曬版質(zhì)量的影響主要與版基質(zhì)量和感光涂層的質(zhì)量有關(guān)。版基質(zhì)量包括材質(zhì)特性和表面處理質(zhì)量。它影響版材尺寸的穩(wěn)定性和印版的耐印力、潤(rùn)濕性能。感光涂層的質(zhì)量包括涂層的厚度。均勻程度和感光特性。它影響印版的解像力、網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)的準(zhǔn)確性和網(wǎng)點(diǎn)的虛實(shí)性。(待續(xù))
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